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[单选]不属于电池车间操作的三大原则是（）

[多选]晶体缺陷包括（）

[多选]激光SE的优点包括（）

[多选]湿法刻蚀的目的（）

[多选]氮化硅膜的优点（）

[多选]转换效率的影响因素包括（）

[单选]PECVD是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜（SiNx:H）。

[单选]可以裸手直接接触硅片

[单选]制绒按工艺的不同可以分为酸制绒和碱制绒

[单选]背面激光开槽是将背面的绝缘保护膜划开，进行开槽，使硅基体露出，保证印刷后的铝浆与硅片接触烧结形成背电极。

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