当前位置:百科知识 > 集成电路制造工艺员(三级)试题

问题描述:

[单选] 表示杂质在硅-二氧化硅界面处重新分布的性质和程度,习惯上常用()。
A.分凝度 B.固溶度 C.分凝系数 D.扩散系数
参考答案:查看
答案解析:
☆收藏

随机题目