问题描述:
[单选]
下列关于曝光后烘烤的说法正确的是()。
A.烘烤的目的是除去光刻胶中的水分
B.烘烤可以减轻曝光中的驻波效应
C.烘烤的温度一般在300℃左右
D.烘烤的时间越长越好
参考答案:查看无
答案解析:无
☆收藏
答案解析:无
☆收藏
- 我要回答: 网友(3.149.254.101)
- 热门题目: 1.扩散工艺现在广泛应用于制作( 2.扩散工艺在现在集成电路工艺中 3.扩散工艺使杂质由半导体晶片表