问题描述：
[单选]
刻蚀是把进行光刻前所沉积的薄膜厚度约在数千到数百A之间中没有被（）覆盖及保护的部分，以化学作用或是物理作用的方式加以去除，以完成转移掩膜图案到薄膜上面的目的。
A．二氧化硅
B．氮化硅
C．光刻胶
D．去离子水
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