当前位置:百科知识 > 集成电路制造工艺员(三级)试题

问题描述:

[多选] 哪种方法可以增加缺陷的积累率而降低临界注入量:()。
A.低温注入 B.常温注入 C.高温注入 D.分子注入 E.双注入
参考答案:查看
答案解析:
☆收藏

随机题目