问题描述:
[单选]
危害半导体工艺的典型金属杂质是()。
A.2族金属
B.碱金属
C.合金金属
D.稀有金属
参考答案:查看无
答案解析:无
☆收藏
答案解析:无
☆收藏
上一篇:静电释放的英文简述为()。
下一篇:悬浮在空气中的颗粒称为()。
- 我要回答: 网友(3.16.203.67)
- 热门题目: 1.扩散工艺现在广泛应用于制作( 2.扩散工艺在现在集成电路工艺中 3.扩散工艺使杂质由半导体晶片表