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[填空]
电阻率条纹上没有微缺陷蚀坑,宏观上看不见小白点,腐蚀面为镜面,这是()和电阻率条纹最重要的区别。
[问答]
解释离子束扩展和空间电荷中和。
[问答]
离子源的目的是什么?最常用的离子源是什么?
[问答]
例举离子注入设备的5个主要子系统。
[问答]
例举离子注入工艺和扩散工艺相比的优点和缺点。
[问答]
例举并解释硅中固态杂质扩散的三个步骤。
[问答]
什么是结深?
[问答]
叙述氮化硅的湿法化学去除工艺。
[问答]
哪种化学气体经常用来刻蚀多晶硅?描述刻蚀多晶硅的三个步骤。
[问答]
定义刻蚀速率并描述它的计算公式。为什么希望有高的刻蚀速率?
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